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Entrega de integridad estructural precisa para litografía de próxima generación. Nuestros monómeros fotorresistentes de ultra alta pureza garantizan una resolución excepcional y un control de dimensiones críticas, lo que impulsa mejoras de rendimiento en la fabricación avanzada de nodos.
Diseñado para la integración de IC de alta densidad. Proporcionamos precursores de polímeros robustos y reticuladores que brindan una estabilidad térmica superior, una contracción mínima y una adhesión de sustrato excepcional para envases heterogéneos 2,5D y 3D.
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